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华卓精科产品获中国专利银奖

发布人:北京华卓精科科技股份有限公司 发布时间:2019-01-04 浏览次数:2343

日前,由国家知识产权局与世界知识产权组织共同主办的中国专利奖颁奖大会在北京举行,清华大学联合开发区企业北京华卓精科科技股份有限公司申报的“采用气浮平面电机的硅片台双台?#25442;?#31995;统?#20445;?/span>ZL200910172949.9)专利,被授予第二十届中国专利银奖。




作为中国自主创新的风向标,中国专利奖是业内公?#31995;?#20013;国高级别的专利奖项,至今已成功举办二十届,该奖项的专业性和权威性获得联合国世界知识产权组织(WIPO)认可。中国专利奖评选不仅强调专利技术先进性和专利运?#20204;?#20917;,而且更侧重对社会效益和行业的影响力,对入选产品的市场地位和综合实力有着极为严格的要求。清华大学联合华卓精科申报的该项专利能?#25442;?#22870;,是?#36816;?#26041;技创新能力和科技成果应用能力的认可。

该发明专利提供的气浮平面电机的硅片台双台?#25442;?#31995;统,具有两个结构相同的分别工作于预处理工位和曝光工位的硅片台,采用平面电机和气浮结构进行驱动和支承。相对于传统的单一硅片台驱动系统,大幅缩短了对准、硅片形貌测量等准备工作所花费的时间,提高了工作效率;而相对于传统的双硅片台驱动系统,本发明专利由于采用气浮平面电机进行驱动,简化了系统结构,降低了系统负载,提高了控制精度;该发明解决了提高硅片台运动速度、加速度和运动定位精度过程中出现的多项技术难题。


光源、曝光光学系统和硅片台合称光刻机中的三大核心子系统。硅片台的速度和精度对于光刻机的产率、分辨率和?#21331;?#31934;度都有重要影响。双硅片台技术作为当今主流光刻机的必备技术,是国产光刻机产品化所必须攻克的核心技术之一。

气浮平面电机专利技术的应用为国产光刻机硅片台实现技术跨越打下了坚实的基础,采用本专利技术方案的双硅片台样机在精度方面达到了荷兰ASML同一代次产品的技术指标,填补了国内空白,获得了应用单位的好评。

清华大学与华卓精科组成的专利联盟共同构建了专利布局和保护体系,自2009年以来,以光刻机双硅片台技术为核心,获国内授权发明专利131项,美国授权发明专利18项,PCT专利申请35项,形成了一个有效的、层次?#32622;?#30340;专利布局体系。


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